인하대학교는 최근 시스템 반도체 설계 전문 기업인 코싸인온과 반도체 산업 발전 및 전문 인력 양성을 위한 산학협력 업무협약을 체결했다고 12일 밝혔다.

코싸인온은 고속·저전력 메모리 인터페이스 IP를 전문으로 개발하는 시스템 반도체 설계 기업이다. DDR·LPDDR·HBM 등 차세대 메모리 컨트롤와 PHY 설계 역량을 보유하고 있다. 특히 AI·NPU 기반 고성능 연산 환경에 최적화한 메모리 아키텍처를 개발하는 글로벌 메모리 솔루션 선두기업이다.

인하대 반도체특성화대학사업단과 코싸인온은 이번 협약을 통해 ▲ 차세대 메모리(LPDDR6·HBM·CXL 등) 설계 교육 과정 공동 개발·운영 ▲반도체 IP 지원을 통한 공동 연구 성과 창출 ▲학생들의 국내외 실무 경험 축적을 위한 채용 연계형 인턴십 프로그램 추진 등을 진행하며 첨단 반도체 분야의 핵심 인재를 육성하는 데 뜻을 모았다.

인하대는 코싸인온과 함께 연구 목적의 반도체 IP를 적극 지원받고 공동 연구 성과 창출에 기여함으로써 대학 내 연구 역량을 고도화하고 메모리 인터페이스 분야의 기술 자립화를 위한 긴밀한 협력 체계를 구축할 계획이다. 또한, 코싸인온은 매년 운영 중인 글로벌 인턴십 프로그램을 통해 학생들의 실무 경험을 지원하고 채용 기회 확대를 위해 노력하며 실무형 설계 인재 양성에 앞장설 예정이다.

박성호 코싸인온 대표는 “글로벌 반도체 산업 경쟁력은 결국 인재에서 시작된다”라며 “인하대와의 협력을 통해 차세대 시스템 반도체 분야를 선도할 전문 인력을 함께 육성하겠다”고 말했다.

조명우 인하대 총장은 “글로벌 메모리 솔루션 시장을 선도하는 코싸인온과의 협업은 우리 학생들이 첨단 반도체 기술을 현장에서 직접 경험할 수 있는 소중한 기회가 될 것”이라며 “두 기관의 시너지를 통해 대한민국 반도체 산업을 이끌 핵심 인재 양성에 최선을 다하겠다”고 말했다.

[ 경기신문 / 인천= 윤용해 기자 ]